微型真空電弧熔煉爐專(zhuān)為大學(xué)研究所科研單位研發(fā)設(shè)計(jì)，是實(shí)驗(yàn)室*的實(shí)驗(yàn)設(shè)備，微型電弧爐主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，用于熔煉特殊鋼、活潑的和難熔的金屬如鈦、鉬、鈮，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設(shè)備采用桌面式結(jié)構(gòu)，占地空間小。

微型真空電弧熔煉爐參數(shù)

1.設(shè)備總功率：35Kw；

2.電源電壓：三相380V,50Hz

3.真空度：優(yōu)于5×10E-4Pa

4.設(shè)備容量：80-150g單工位

5.熔煉溫度：3500

6.真空泵組：飛越機(jī)械泵 +管路閥門(mén)

7.熔煉工位：5個(gè)標(biāo)準(zhǔn)¢50*25 冶煉工位，冶煉工位可根據(jù)客戶(hù)要求配置

8.帶吸鑄鑄造功能，帶電磁攪拌 帶翻料機(jī)構(gòu)

9：真空腔尺寸：¢300×350

10：控制方式：操作模擬屏

微型電弧爐特點(diǎn)

1、采用高純氬氣保護(hù)，熔煉溫度可達(dá)3500℃。

2、真空腔體小，可快速抽真空，快速充氬氣，效率快及氬氣消耗非常少。

3、可同時(shí)熔煉多個(gè)樣品。

4、水冷銅坩堝可方便拆卸。

5、采用真空計(jì)測(cè)量真空，壓力傳感器和電磁閥保護(hù)爐內(nèi)壓力。

6、采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛。

7、桌面式設(shè)計(jì)，占地空間小，特別節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源。

新型非自耗真空電弧爐，微型電弧爐，小型電弧爐，被客戶(hù)們廣泛稱(chēng)為“放在桌子上的電弧爐”，我們做的不僅僅是電爐，也是設(shè)備中的藝術(shù)品，它不僅小巧精致，而且功能也不遜于大型非自耗真空電弧爐、真空電弧爐。